Webbläsaren som du använder stöds inte av denna webbplats. Alla versioner av Internet Explorer stöds inte längre, av oss eller Microsoft (läs mer här: * https://www.microsoft.com/en-us/microsoft-365/windows/end-of-ie-support).

Var god och använd en modern webbläsare för att ta del av denna webbplats, som t.ex. nyaste versioner av Edge, Chrome, Firefox eller Safari osv.

Reactive dc magnetron sputter deposited Al2O3: large area coatings for industrial application

In English

Författare

  • Maryam Olsson
  • Karol Macak
  • Wolfgang Graf

Summary, in English

Stoichiometric Al2O3 films are produced with a pure Al source in the metallic state in an O2+Ar gas mixture using reactive d.c. magnetron sputtering. Substrates as large as 70×100 cm2 are uniformly coated at room temperature while moving in front of the cathode. The key to the success lies in utilizing a sufficiently high working gas pressure and a sufficiently large source-to-substrate distance. Monte Carlo simulations are used to estimate the latter. The process is extremely stable, and despite the large target size, no arcing is detected.

Publiceringsår

1999

Språk

Engelska

Sidor

202-207

Publikation/Tidskrift/Serie

Surface & Coatings Technology

Volym

122

Issue

2-3

Dokumenttyp

Artikel i tidskrift

Förlag

Elsevier

Ämne

  • Social Sciences Interdisciplinary
  • Other Engineering and Technologies not elsewhere specified

Nyckelord

  • Al2O3
  • Large area coatings
  • Reactive d.c. magnetron sputtering

Status

Published

ISBN/ISSN/Övrigt

  • ISSN: 0257-8972