Meny

Javascript is not activated in your browser. This website needs javascript activated to work properly.
Du är här

Reduction of native oxides on InAs by atomic layer deposited Al2O3 and HfO2

Publiceringsår: 2010
Språk: Engelska
Sidor:
Publikation/Tidskrift/Serie: Applied Physics Letters
Volym: 97
Dokumenttyp: Artikel
Förlag: American Institute of Physics

Sammanfattning

Disputation

Nyckelord

  • Physics and Astronomy

Övriga

Published
Yes
  • Nano
  • ISSN: 0003-6951

Box 117, 221 00 LUND
Telefon 046-222 00 00 (växel)
Telefax 046-222 47 20
lu [at] lu [dot] se

Fakturaadress: Box 188, 221 00 LUND
Organisationsnummer: 202100-3211
Om webbplatsen