Meny

Javascript verkar inte påslaget? - Vissa delar av Lunds universitets webbplats fungerar inte optimalt utan javascript, kontrollera din webbläsares inställningar.
Du är här

Interface composition of InAs nanowires with Al2O2 and HfO2 thin films

Publiceringsår: 2011
Språk: Engelska
Sidor: 222907-1-222907-3
Publikation/Tidskrift/Serie: Applied Physics Letters
Volym: 99
Nummer: 22
Dokumenttyp: Artikel
Förlag: American Institute of Physics

Sammanfattning

Disputation

Nyckelord

  • Physics and Astronomy
  • high-k dielectric thin films
  • alumina
  • hafnium compounds
  • indium
  • compounds
  • interface phenomena
  • nanostructured materials
  • nanowires
  • semiconductor materials

Övriga

Published
Yes
  • Nano
  • ISSN: 0003-6951

Box 117, 221 00 LUND
Telefon 046-222 00 00 (växel)
Telefax 046-222 47 20
lu [at] lu [dot] se

Fakturaadress: Box 188, 221 00 LUND
Organisationsnummer: 202100-3211
Om webbplatsen