Meny

Javascript is not activated in your browser. This website needs javascript activated to work properly.
Du är här

Interface composition of InAs nanowires with Al2O2 and HfO2 thin films

Publiceringsår: 2011
Språk: Engelska
Sidor: 222907-1-222907-3
Publikation/Tidskrift/Serie: Applied Physics Letters
Volym: 99
Nummer: 22
Dokumenttyp: Artikel
Förlag: American Institute of Physics

Sammanfattning

Disputation

Nyckelord

  • Physics and Astronomy
  • high-k dielectric thin films
  • alumina
  • hafnium compounds
  • indium
  • compounds
  • interface phenomena
  • nanostructured materials
  • nanowires
  • semiconductor materials

Övriga

Published
Yes
  • Nano
  • ISSN: 0003-6951

Box 117, 221 00 LUND
Telefon 046-222 00 00 (växel)
Telefax 046-222 47 20
lu [at] lu [dot] se

Fakturaadress: Box 188, 221 00 LUND
Organisationsnummer: 202100-3211
Om webbplatsen