Meny

Javascript verkar inte påslaget? - Vissa delar av Lunds universitets webbplats fungerar inte optimalt utan javascript, kontrollera din webbläsares inställningar.
Du är här

Reduction of native oxides on InAs by atomic layer deposited Al2O3 and HfO2

Publiceringsår: 2010
Språk: Engelska
Publikation/Tidskrift/Serie: Applied Physics Letters
Volym: 97
Dokumenttyp: Artikel i tidskrift
Förlag: American Institute of Physics

Nyckelord

  • Atom and Molecular Physics and Optics

Övriga

Published
  • Nano-lup-obsolete
  • ISSN: 0003-6951

Box 117, 221 00 LUND
Telefon 046-222 00 00 (växel)
Telefax 046-222 47 20
lu [at] lu.se

Fakturaadress: Box 188, 221 00 LUND
Organisationsnummer: 202100-3211
Om webbplatsen