Du är här

Investigation of PMMA resist residues using photoelectron microscopy

Författare:

Avdelning/ar:

Max-lab

Publiceringsår: 2002

Språk: Engelska

Sidor: 1139-1142

Publikation/Tidskrift/Serie: Journal of Vacuum Science and Technology

Volym: B20

Nummer: 3

Dokumenttyp: Artikel

Sammanfattning

Disputation

Nyckelord

Ämne

Physics and Astronomy

Övrigt

Status Published

Kvalitetskontrollerad Yes

Box 117, 221 00 LUND
Telefon 046-222 00 00 (växel)
Telefax 046-222 47 20
lu [at] lu [dot] se

Fakturaadress: Box 188, 221 00 LUND
Organisationsnummer: 202100-3211
Om webbplatsen