Webbläsaren som du använder stöds inte av denna webbplats. Alla versioner av Internet Explorer stöds inte längre, av oss eller Microsoft (läs mer här: * https://www.microsoft.com/en-us/microsoft-365/windows/end-of-ie-support).

Var god och använd en modern webbläsare för att ta del av denna webbplats, som t.ex. nyaste versioner av Edge, Chrome, Firefox eller Safari osv.

Vertical wrap-gated nanowire transistors

Författare

Summary, in English

We present a process for fabricating a field-effect transistor based on vertically standing InAs nanowires and demonstrate initial device characteristics. The wires are grown by chemical beam epitaxy at lithographically defined locations. Wrap gates are formed around the base of the wires through a number of deposition and etch steps. The fabrication is based on standard III - V processing and includes no random elements or single nanowire manipulation.

Publiceringsår

2006

Språk

Engelska

Sidor

227-230

Publikation/Tidskrift/Serie

Nanotechnology

Volym

17

Issue

11

Dokumenttyp

Artikel i tidskrift

Förlag

IOP Publishing

Ämne

  • Nano Technology

Status

Published

ISBN/ISSN/Övrigt

  • ISSN: 0957-4484