Webbläsaren som du använder stöds inte av denna webbplats. Alla versioner av Internet Explorer stöds inte längre, av oss eller Microsoft (läs mer här: * https://www.microsoft.com/en-us/microsoft-365/windows/end-of-ie-support).

Var god och använd en modern webbläsare för att ta del av denna webbplats, som t.ex. nyaste versioner av Edge, Chrome, Firefox eller Safari osv.

Epitaxial III-V nanowires on silicon

Författare

Summary, in English

We present results of ideal epitaxial nucleation and growth of III-V semiconductor nanowires on silicon substrates. This addresses the long-time challenge of integrating high performance III-V semiconductors with mainstream Si technology. Efficient room-temperature generation of light on silicon is demonstrated by the incorporation of double heterostructure segments in such nanowires. We expect that advanced heterostructure devices, such as resonant tunneling diodes, superiattice device structures, and heterostructure photonic devices for on-chip communication, could now become available as complementary device technologies for integration with silicon.

Publiceringsår

2004

Språk

Engelska

Sidor

1987-1990

Publikation/Tidskrift/Serie

Nano Letters

Volym

4

Issue

10

Dokumenttyp

Artikel i tidskrift

Förlag

The American Chemical Society (ACS)

Ämne

  • Nano Technology

Status

Published

ISBN/ISSN/Övrigt

  • ISSN: 1530-6992