Webbläsaren som du använder stöds inte av denna webbplats. Alla versioner av Internet Explorer stöds inte längre, av oss eller Microsoft (läs mer här: * https://www.microsoft.com/en-us/microsoft-365/windows/end-of-ie-support).

Var god och använd en modern webbläsare för att ta del av denna webbplats, som t.ex. nyaste versioner av Edge, Chrome, Firefox eller Safari osv.

Tunnel Field-Effect Transistors Based on InP-GaAs Heterostructure Nanowires.

Författare

Summary, in English

We present tunneling field-effect transistors fabricated from InP-GaAs heterostructure nanowires with an n-i-p doping profile, where the intrinsic InP region is modulated by a top gate. The devices show an inverse subthreshold slope down to 50 mV/dec averaged over two decades with an on/off current ratio of approximately 10(7) for a gate voltage swing (V(GS)) of 1 V and an on-current of 2.2 μA/μm. Low-temperature measurements suggest a mechanism of trap-assisted tunneling, possibly explained by a narrow band gap segment of InGaAsP.

Publiceringsår

2012

Språk

Engelska

Sidor

3109-3113

Publikation/Tidskrift/Serie

ACS Nano

Volym

6

Issue

4

Dokumenttyp

Artikel i tidskrift

Förlag

The American Chemical Society (ACS)

Ämne

  • Nano Technology

Status

Published

ISBN/ISSN/Övrigt

  • ISSN: 1936-086X