Reduction of native oxides on InAs by atomic layer deposited Al2O3 and HfO2
Författare
Publiceringsår
2010
Språk
Engelska
Publikation/Tidskrift/Serie
Applied Physics Letters
Volym
97
Dokumenttyp
Artikel i tidskrift
Förlag
American Institute of Physics (AIP)
Ämne
- Atom and Molecular Physics and Optics
Status
Published
Forskningsgrupp
- Nano
ISBN/ISSN/Övrigt
- ISSN: 0003-6951