Webbläsaren som du använder stöds inte av denna webbplats. Alla versioner av Internet Explorer stöds inte längre, av oss eller Microsoft (läs mer här: * https://www.microsoft.com/en-us/microsoft-365/windows/end-of-ie-support).

Var god och använd en modern webbläsare för att ta del av denna webbplats, som t.ex. nyaste versioner av Edge, Chrome, Firefox eller Safari osv.

High rate direct current reactive sputter deposition of Al2O3 - Required process parameters

In English

Författare

  • Karol Macak
  • Maryam Olsson
  • Ulf Helmersson

Publiceringsår

1997

Språk

Engelska

Sidor

176-176

Publikation/Tidskrift/Serie

CIP'97 proceedings : 11th International colloquium on plasma processes, May 25-29, 1997

Dokumenttyp

Konferensbidrag

Förlag

Société française du vide

Ämne

  • Social Sciences Interdisciplinary
  • Other Engineering and Technologies not elsewhere specified

Conference name

11th International colloquium on plasma processes

Conference date

1997-05-25 - 1997-05-29

Conference place

Le Mans, France

Status

Published