Webbläsaren som du använder stöds inte av denna webbplats. Alla versioner av Internet Explorer stöds inte längre, av oss eller Microsoft (läs mer här: * https://www.microsoft.com/en-us/microsoft-365/windows/end-of-ie-support).

Var god och använd en modern webbläsare för att ta del av denna webbplats, som t.ex. nyaste versioner av Edge, Chrome, Firefox eller Safari osv.

High-rate reactive magnetron sputter deposition and characterization of metal oxide films

In English

Författare

  • Maryam Olsson

Summary, in English

to be added

Publiceringsår

2000

Språk

Engelska

Dokumenttyp

Doktorsavhandling

Förlag

Uppsala University

Ämne

  • Other Engineering and Technologies not elsewhere specified
  • Social Sciences Interdisciplinary

Status

Published

Handledare

  • Claes Göran Granqvist

ISBN/ISSN/Övrigt

  • ISBN: 91-554-4683-3

Försvarsdatum

5 april 2000

Försvarstid

00:09

Försvarsplats

Uppsala University, Ångström laboratory

Opponent

  • William Westwood (Consultant)