Webbläsaren som du använder stöds inte av denna webbplats. Alla versioner av Internet Explorer stöds inte längre, av oss eller Microsoft (läs mer här: * https://www.microsoft.com/en-us/microsoft-365/windows/end-of-ie-support).

Var god och använd en modern webbläsare för att ta del av denna webbplats, som t.ex. nyaste versioner av Edge, Chrome, Firefox eller Safari osv.

Investigation of PMMA resist residues using photoelectron microscopy

Författare

Publiceringsår

2002

Språk

Engelska

Sidor

1139-1142

Publikation/Tidskrift/Serie

Journal of Vacuum Science and Technology

Volym

B20

Issue

3

Dokumenttyp

Artikel i tidskrift

Ämne

  • Physical Sciences
  • Natural Sciences

Status

Published

Forskningsgrupp

  • Neuronano Research Center (NRC)