Investigation of PMMA resist residues using photoelectron microscopy
Författare
Publiceringsår
2002
Språk
Engelska
Sidor
1139-1142
Publikation/Tidskrift/Serie
Journal of Vacuum Science and Technology
Volym
B20
Issue
3
Dokumenttyp
Artikel i tidskrift
Ämne
- Physical Sciences
- Natural Sciences
Status
Published
Forskningsgrupp
- Neuronano Research Center (NRC)