Webbläsaren som du använder stöds inte av denna webbplats. Alla versioner av Internet Explorer stöds inte längre, av oss eller Microsoft (läs mer här: * https://www.microsoft.com/en-us/microsoft-365/windows/end-of-ie-support).

Var god och använd en modern webbläsare för att ta del av denna webbplats, som t.ex. nyaste versioner av Edge, Chrome, Firefox eller Safari osv.

Site control of InAs quantum dots on a patterned InP surface: As/P exchange reactions

Författare

Summary, in English

In this paper. we present the effect of annealing temperature and annealing time on InAs site-controlled quantum dot growth. Individual InAs quantum dots formed by self-assembling have been positioned into holes, created by partial overgrowth of electron beam induced nano-carbon deposits by metal organic vapor phase epitaxy. As/P exchange reactions produce material sufficient for selective dot nucleation in the holes. Results. showing that As/P exchange reactions occur even when capping the dots with InP are presented. (C) 2002 Elsevier Science B.V. All rights reserved.

Publiceringsår

2003

Språk

Engelska

Sidor

310-316

Publikation/Tidskrift/Serie

Journal of Crystal Growth

Volym

248

Dokumenttyp

Artikel i tidskrift

Förlag

Elsevier

Ämne

  • Electrical Engineering, Electronic Engineering, Information Engineering
  • Condensed Matter Physics

Nyckelord

  • nanomaterials
  • nanostructures
  • metalorganic vapor phase epitaxy
  • semiconducting IIIV materials

Status

Published

ISBN/ISSN/Övrigt

  • ISSN: 0022-0248